照射装置

製品名	照射装置
適用分野	照射装置（材質改質、滅菌処理等）
製品概要	1. 原子炉の中性子を利用した照射装置半導体の素材を作る目的でシリコンを原子炉内へ挿入して、炉の中性子を利用して、シリコンを均一に照射させる装置です。 2.線源（Co60）を使用した照射装置 ①新素材の開発を目的にした照射装置で線源はCo60: 1.85×10^１５Bq （50000Ci）迄使用可能です。 ②ゴム(ラテックス)の改質を目的にした照射装置で線源はCo60: 3.7× 10^１５Bq(100000Ci)迄使用可能です。他、用途により各種照射装置の設計・製作も受け賜ります。

製品名

照射装置

適用分野

照射装置（材質改質、滅菌処理等）

製品概要

1. 原子炉の中性子を利用した照射装置

半導体の素材を作る目的でシリコンを原子炉内へ挿入して、炉の中性子を利用して、シリコンを均一に照射させる装置です。

2.線源（Co60）を使用した照射装置

①新素材の開発を目的にした照射装置で線源はCo60: 1.85×10^１５Bq （50000Ci）迄使用可能です。

②ゴム(ラテックス)の改質を目的にした照射装置で線源はCo60: 3.7× 10^１５Bq(100000Ci)迄使用可能です。

他、用途により各種照射装置の設計・製作も受け賜ります。